使洁净室总体表现下降的因素

发表时间:2018-11-02 14:41作者:天津生物工程净化来源:天津生物工程净化网址:http://www.tjashy.com

湿度控制是无尘车间生产必需具备的重要条件,相对湿度是无尘车间、洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内,允许误差在±1%的狭窄的范围内,例如光刻区或者在远紫外线处理(DUV)区甚至更小而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。


近年,在这些规定范围中保持处理空气过程,天津生物工程净化为大家介绍一下相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素,其中包括:


1、细菌生长;2、工作人员感到室温舒适的范围;3、出现静电荷;4、金属腐蚀;5、水汽冷凝;6、光刻的退化;7、吸水性。


细菌和其他生物污染(霉菌,病毒,真菌,螨虫)在相对湿度超过60%的环境中可以活跃地繁殖。一些菌群在相对湿度超过30%时就可以增长。在相对湿度处于40%至60%的范围之间时,可以使细菌的影响以及呼吸道感染降至最低。


相对湿度在40%至60%的范围同样也是人类感觉舒适的适度范围。湿度过高会使人觉得气闷,而湿度低于30%则会让人感觉干燥,皮肤破裂,呼吸道不适以及情感上的不快。


实际上,天津生物工程净化相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下,光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然,改变粘性,就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2A。


此外,在高的相对湿度环境下,由于水分的吸收,使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可  以受到较高的相对湿度的负面影响;较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易,甚至不需要聚合改性剂,如六甲基二硅氮烷(HMDS)。


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